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| 高真空多靶磁控濺射鍍膜機 | |
| (略) 在采購意向： | (略) * 月政府采購意向 |
| 采購單位： | (略) |
| 采購項目名稱： | 高真空多靶磁控濺射鍍膜機 |
| 預算金額： | * . *** 萬元(人民幣) |
| 采購品目： | A *** 真空應用設備 |
| 采購需求概況： | 高真空多靶磁控濺射鍍膜機，實現高質量磁性材料、外延薄膜生長、半導體薄膜以及新型 * 維材料薄膜等多種薄膜的高質量均勻沉積功能。擬采購1臺。需要有多路氣路通道，可以在制備過程通入多種補償氣體；需要實現極限真空度優于7x * -9torr，6英寸基片的薄膜均勻性≤±5%（去除邊緣5mm）。 |
| 預計采購時間： | *** |
| 備注： | (略) (略) ，具體實 (略) |
本次公開的采購意向是本單位政府采購工作的初步安排， (略) 和采購文件為準。
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